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  C2S和C3S这两种高熔点硅酸盐富集层的形成，对高SiO2熔渣的渗透起着缓和与阻滞作用。实际使用情况是反应带只有薄薄的一层，反应带之后是以高熔点方镁石为主的过渡层，再往内就是散状料，也就是说这种干式捣打料可保持深层的适度分散性。

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  电弧炉底干式捣打料是由所占比例很高的粒状和粉状料及所占比例很低的结合剂和其他组分配制而成的，甚至全部由粒、粉状料组成，要经强力捣打的方式施工的散状料。与同类材质的其他不定形耐火材料相比，呈干或半干的松散状，靠强力捣打获得密实结构体，只有加热到烧结温度，结合体才具有强度。

  电弧炉底干式捣打料在打结前确保供电还有供水系统的完善，也要提前通过各个工程上面的工作人员提前作好准备。当然，也包括工作人员不准携带任何可燃物进行工作现场，当然也包括手机、钥匙等一些物品。

  电弧炉底干式捣打料的结合剂选择要适当，有的不用结合剂，有的只加少量助熔剂。酸性捣打料常用硅酸钠、硅酸乙酯、硅胶等结合剂。其中干式捣打料多用硼酸盐；碱性捣打料常用镁的氯化盐和硫酸盐等；也常使用含碳较高的在高温下可形成碳结合的有机物和暂时性的结合剂。其中干式捣打料加适量含铁的助熔剂。铬质捣打料常用芒硝。