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C2S和C3S这两种高熔点硅酸盐富集层的形成,对高SiO2熔渣的渗透起着缓和与阻滞作用。实际使用情况是反应带只有薄薄的一层,反应带之后是以高熔点方镁石为主的过渡层,再往内就是散状料,也就是说这种干式捣打料可保持深层的适度分散性。
电弧炉底干式捣打料的结合剂选择要适当,有的不用结合剂,有的只加少量助熔剂。酸性捣打料常用硅酸钠、硅酸乙酯、硅胶等结合剂。其中干式捣打料多用硼酸盐;碱性捣打料常用镁的氯化盐和硫酸盐等;也常使用含碳较高的在高温下可形成碳结合的有机物和暂时性的结合剂。其中干式捣打料加适量含铁的助熔剂。铬质捣打料常用芒硝。
电弧炉底干式捣打料在打结前确保供电还有供水系统的完善,也要提前通过各个工程上面的工作人员提前作好准备。当然,也包括工作人员不准携带任何可燃物进行工作现场,当然也包括手机、钥匙等一些物品。
电弧炉底干式捣打料在打结的时候要按照先摇后振的方式来操作。而且要注意手法,保证操作的过程中要先轻后重。并且摇杆也要一次就插到底部,而且每一次插杆的时候都以摇晃八到十下。炉底打完结之后,一定要保证可以平稳的放入干锅镆。这样才能保证成形比较标准,一般都会是一具标准的环形三角圈。
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